CCZK-SF磁控溅射镀膜设备溅射镀技术应用
蒸发和磁控溅射两用立式装饰镀膜机，主要适用于塑料、陶瓷、玻璃金属材料表面镀制金属化装饰膜。
由于镀膜室为立式容器，所以它具有卧式镀膜机的一切优点， 又利于自重较大的、易碎的镀件装卡，更可方便地实现自动生产线，是替代传统湿法水电镀的更为理想的新一代真空镀膜设备。
CCZK-SF磁控溅射镀膜设备
腔体结构： 立式前开门，卧式前开门。
材质用料：腔体材质为SUS304不锈钢或碳钢
真空系统： 扩散泵（可选分子泵）+罗茨泵+机械泵+维持泵（另有深冷泵系统可供选择）
溅射靶材： 中心圆柱靶，平面靶，孪生靶等
磁控电源： 可配备直流或中频磁控溅射电源
转动系统： 变频调速，公自转结合，可根据客户产品和要求设计
膜层结构： 单层膜、多层膜
气体控制： 气体流量控制仪集成触控操作控制
人机界面： PLC智能控制+全彩HMI触摸屏
操作方式： 逻辑全自动方式、半自动方式、手动方式
智能控制： PLC智能控制+HMI全彩人机触控界面，实现全自动控制
报警及保护：异常情况进行报警，并执行相应保护措施。
其他技术参数：
极限真空： 5.0×10-4Pa
抽气速率： 5.0*10-2≤5min
水压流速≥0.2Mpa 3m3/h；水温≤25℃；气压：0.4-0.8Mpa；
备注：
一般规格：
Φ1000mm*H1200mm，Φ1400mm*H1600mm,Φ1200mm*H1500mm，
Φ1800mm*H2000mm, Φ2000mm*H2200mm
真空室尺寸或设备配置可按客户产品及特殊工艺要求订做
本机镀部分产品可不做底油。本机主 要特点配用改进型高真空排气系统，抽速快、效率高、节电、降噪和延长泵使用寿命;实现蒸发、磁控溅射、自动控制，操作简单，工作可靠;蒸发镀应用新型电极 引入装置，接触电阻小且可靠;磁控溅射应用镀膜材料广泛，各种非导磁的金属、合金均可作镀料;结构紧凑、占地面积小;磁控、蒸发共用两台立式工件车，操作 方便、高效。
(或双门蒸发、磁控两用机) 公司业务范围真空镀膜成套设备与技术，真空工程用各种泵、阀、真空计、油、脂、密封件，真空镀膜材料、涂料、金属及合金制品。真空设备故障诊断与排除、老 产品改造。新型塑料、金属、玻璃等制品表面处理工艺及技术研究，咨询服务。
新技术、新设备、新工艺公司新开发的磁控、蒸发多用镀膜机，配用改进型高真空抽 气系统及全自动控制系统，抽速快、效率高、操作简单、工作可靠;具有可镀膜系广、膜层均匀、附着力好、基板温度底等特点;是镀制金属、合金及化合物膜的理 想设备;适合镀制透明膜、半透明膜、超硬膜、屏蔽膜及一些特殊的功能性膜。已广泛应用在光学、电子、通讯、航空等领域。
关键词：真空镀膜机 磁控溅射镀膜设备
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