真空镀膜设备 真空镀膜机溅射靶材
真空镀膜设备 真空镀膜机溅射靶材（纯度：99.9%-99.999%）
真空镀膜设备 真空镀膜机金属靶材
镍靶（Ni靶）、钛靶（Ti靶）、锌靶（Zn靶）、铬靶（Cr靶）、镁靶（Mg靶）、铌靶（Nb靶）、锡靶（Sn靶）、铝靶（Al靶）、铟靶（In靶）、铁靶（Fe靶）、锆铝靶（ZrAl靶）、钛铝靶（TiAl靶）、锆靶（Zr靶）、硅靶（Si靶）、铜靶（Cu靶）、钽靶（Ta靶）、锗靶（Ge靶）、银靶（Ag靶）、钴靶（Co靶）、金靶（Au靶）、钆靶（Gd靶）、镧靶（La靶）、钇靶（Y靶）、铈靶（Ce靶）、铪靶（Hf靶）、钼靶（Mo靶）、铁镍靶（FeNi靶）、V靶、W靶、不锈钢靶、镍铁靶、铁钴靶、镍铬靶、铜铟镓靶、铝硅靶NiCr靶等金属靶材。
真空镀膜设备 真空镀膜机陶瓷靶材
ITO靶、AZO靶，氧化镁靶、氧化铁靶、氧化铬靶、氧化锌靶、硫化锌靶、硫化镉靶，硫化钼靶，二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化铈靶、二氧化锆靶、五氧化二铌靶、二氧化钛靶、二氧化锆靶，二氧化铪靶，二硼化钛靶，二硼化锆靶，三氧化钨靶，三氧化二铝靶，五氧化二钽靶，五氧化二铌靶、氟化镁靶、氟化钇靶、氟化镁靶，硒化锌靶、氮化铝靶，氮化硅靶，氮化硼靶，氮化钛靶，碳化硅靶，铌酸锂靶、钛酸镨靶、钛酸钡靶、钛酸镧靶、氧化镍靶等陶瓷溅射靶材。
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