真空镀膜机液态电浆抛光原理
真空镀膜机此方法将待抛光工件浸入加热的电解质水溶液中，并对其施加正极性电压，该电解液无公害且廉价低浓度,所施加的电压为直流电压，工件可以是不锈钢、工具钢、低碳钢、铜、金和铝等导电材料。在适当的工作条件下，
真空镀膜机工件表面会出现稳定的蒸气气体层，该气体层会把被处理表面与电解质水溶液隔开，从而导致表面与电解液蒸气之间产生强烈的等离子体化学和电化学反应，使被处理表面产生阴极氧化，同时又使阴极氧化层受到化学侵蚀，在氧化速度与侵蚀速度相等时出现抛光效果，其表现为光洁度上升及反射率提高。当氧化层最薄且又足以抵御侵蚀作用时，
真空镀膜机其反射率出现最高值。微观不平处的氧化层最薄，因此侵蚀总是发生在凸起部位。此外，被抛光表面被施加足够高的电压后，它和气体层、蒸气、电解液之间会产生很高的电场强度，这种强度也在微观不平处得到强化。这些作用的综合效果，使表面微观凸起部位被削平，达到抛光效果。
真空镀膜机等离子也称为物质的第四态，是一种电磁气态放电现象，使气态粒子部分电离，这种被电离的气体包括原子、分子、原子团、离子和电子。真空镀膜机等离子就是在高温高压下，抛光剂水溶，在高温高压下，电子会脱离原子核而跑出来，原子核就形成了一个带正电的离子，当这些离子达到一定数量的时候可以成为等离子态，等离子态能量很大，当这些等离子和要抛光的物体摩擦时，顷刻间会使物体达到表面光亮的效果
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